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铼靶

铼靶材用于磁控溅射镀膜,磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相(PVD)镀膜体例,比拟于蒸发镀膜体例,其在良多方面有相称较着的上风,作为一项已成长得较为成熟的手艺,磁控溅射已被操纵于良多范畴,比方在半导体集成电路、太阳能光伏、记实介质、立体显现和工件外表涂层等方面都获得了普遍操纵。
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铼靶(ba)材用(yong)于(yu)磁(ci)控(kong)溅(jian)(jian)射镀(du)膜(mo)(mo),磁(ci)控(kong)溅(jian)(jian)射镀(du)膜(mo)(mo)是一种新型的物(wu)理气(qi)相(PVD)镀(du)膜(mo)(mo)体(ti)例,比拟于(yu)蒸发镀(du)膜(mo)(mo)体(ti)例,其在良(liang)多(duo)(duo)方(fang)面有相称(cheng)较(jiao)(jiao)着(zhe)的上(shang)风,作为(wei)一项已(yi)成(cheng)长(zhang)得(de)较(jiao)(jiao)为(wei)成(cheng)熟的手(shou)艺,磁(ci)控(kong)溅(jian)(jian)射已(yi)被操(cao)纵(zong)于(yu)良(liang)多(duo)(duo)范畴(chou),比方(fang)在半导体(ti)集成(cheng)电(dian)路、太阳能光伏、记(ji)实介质、立体(ti)显现和(he)工(gong)件外(wai)表涂层等方(fang)面都获得(de)了普遍操(cao)纵(zong)。

湖(hu)南铼因接纳本企业出产的高纯(chun)金属铼粉可为(wei)用(yong)户专业出产加工各类规(gui)格溅射(she)靶材(cai),纯(chun)度高、密度高、致密平均、晶粒细,具备良好导(dao)热(re)性,从(cong)而保障(zhang)靶材(cai)的高效力(li)和(he)高操(cao)纵率。

规格:纯度(du)Re≥99.99%~99.999%,外形、尺寸、密度(du)接管各类定制产物。

关头词:
铼溅射靶
溅射铼靶
磁控溅射镀膜铼靶
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